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位置および角度測定変位測定干渉計

ZMI™ 変位測定干渉計システム。
変位測定干渉計システム(DMI)は「対象」の相対的な位置を非常に高い精度まで測定し、動作制御システムにフィードバックを理想的に返すようにします。この技術向けの一般的な OEM アプリケーションはフォトリソグラフィー装置にあり、そこではステージ位置を測定し、データを精密動作制御システムに送信し、ステージの超精密配置を可能にします。

このレベルの精度から可能な処理には以下があります:機械ツールキャリブレーション、半導体フォトリソグラフィーでのX-Y ステージ制御、ステージ制御とメモリ修復におけるトリガー、ウエハー検査、機械ツールキャリブレーション、 およびダイヤモンド回転です。様々な干渉計の構成が可能で、それぞれが特殊な測定タイプを可能にするように設計されます。

線形干渉計

角度干渉計

変位測定 - 限定された距離の超精密測定に便利です。右にあるのは、線形変位の測定用の基本的な単一パス構成です。測定ビームは対象に対してに 1 つのパスしか作成しないので、この設計は移動の最大範囲を可能にします。2 パス構成は単一パスの半分の範囲です。

角度測定 - 対象鏡の角度の変化を超精密に測定。DPMI 構成に見られます(差異平面鏡干渉計)。角度変位参照鏡には 2 つの穴があり、ビームの 2 番目のパスが、1 番目のパスから反射した反対側の鏡に向くように、配置されます。結果として得られた出力は角度変位で、その解像度は対象鏡のビームの分離に基づきます(0.1 秒)。

ZYGO 社の ZMI™ シリーズ 製品は OEM アプリケーション用の変位および角度測定干渉計システムにおける業界のリーダーです。

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